0204548Plasma processing
กระบวนการทางพลาสมา
สังกัดคณะวิทยาศาสตร์, ภาควิชาฟิสิกส์
หน่วยกิต3 (3-0-6)
สถานะรายวิชา:ใช้งาน
เงื่อนไขรายวิชา: 0204545
เลือก ปีการศึกษา: 1 / 2564 

รายวิชานี้ไม่เปิดสอน ภาคการศึกษาที่1 / 2564
หรือ ข้อมูลกำลังอยู่ในระหว่างเตรียมการ
Course Description
พื้นฐานทางพลาสมา พื้นฐานการดิสชาร์จของก๊าซ แหล่งกำเนิดพลาสมา อันตรกริยาระหว่างพลาสมากับผิววัสดุ การปรับปรุงผิววัสดุด้วยพลาสมา การเคลือบผิวและการเคลือบฝังไอออนด้วยพลาสมา การกัดเซาะด้วยพลาสมา


Plasma fundamentals, gas discharge fundamentals, plasma sources, surface interaction and ion implantation, plasma etching

หมายเหตุ
เรียน  C = Lecture  L = Lab  S = Self Study
หมวด  A = วิชาศึกษาทั่วไปบังคับ  B = วิชาศึกษาทั่วไปเลือก  C = วิชาแกน  F = วิชาเลือกเสรี  H = วิชาชีพครูเลือก  L = วิชาพื้นฐานวิชาเอก  M = วิชาเอกบังคับ  N = วิชาเอกเลือก  O = วิชาเฉพาะ  T = วิชาโท  W = ไม่ระบุ  X = ยังไม่กำหนด
เวลา 




  
Powered by Vision Net, 1995 - 2024   Contact Staff : Visionnet
Powered by Vision Net, 1995 - 2021 Contact Staff : Visionnet