ภาษาไทย 
English
Print Friendly
| |||||||||||||||||||||||
| Course Description เทคโนโลยีการผลิตไอซ การปลูกผลึก การสร้างชั้นอิพิแทกซีในเฟสของไอ การสร้างชั้นอิพิแทกซีในเฟสของเหลว การสร้างชั้นอิพิแทกซีด้วยลำโมเลกุล การสร้างชั้นออกไซด์ด้วยความร้อน การแพร่ซึมในสภาพของแข็ง อิออน อิมพลานเตชัน การทำขั้วโลหะ การถ่ายแบบ ฟิสิกส์สารกึ่งตัวนำ สภาพไม่สมดุล การฉีดพาหะ ทฤษฎีผิวของสารกึ่งตัวนำ คุณสมบัติของระบบซิลิกอน ซิลิกอนไดออกไซด์ Integrated circuit fabrication technologies: crystal growth, vapor phase epitaxy, liquid phase epitaxy, molecular beam epitaxy, thermal oxidation, solid-state diffusion, ion implantation, metallization, lithography; semiconductor physics: non-equilibrium state, carrier injection, semiconductor surface theory, inversion layer in MOS structure, surface effect devices, properties of silicon-silicon dioxide system |
